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發布日期:2025-05-30 07:40    點擊次數:136


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  新浪科技訊 12月12日午間音信,近日,英特爾代工書記芯片內互聯工夫贏得要緊打破,通過公司最新的減成法釕互連工夫(subtractive Ruthenium)最高可將線間電容裁減25%,有用改善了芯片內互連。

  據先容,減成法釕互連工夫通過襲取釕這一新式、關節、替代性的金屬化材料,訛詐薄膜電阻率(thin film resistivity)和空氣輾轉(airgap),齊備了在互連微縮方面的要緊朝上。該工藝無需通孔周圍繁榮的光刻空氣輾轉區域(lithographic airgap exclusion zone),也不錯幸免使用遴選性蝕刻的自瞄準通孔(self-aligned via)。在間距小于或就是 25 納米時,襲取減成法釕互連工夫齊備的空氣輾轉使線間電容最高裁減 25%,可算作一種金屬化有籌謀在良好間距層中替代銅嵌入工藝。

  據悉,這一科罰有籌謀有望在英特爾代工的翌日制程節點中得以應用。

  此外,英特爾代工還透露了一種用于先進封裝的異構集成科罰有籌謀,或者將婉曲量提高高達100倍,齊備超快速的芯片間封裝(chip-to-chip assembly)。(文猛)

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